黄仁勋：预计中国到2030年可研制自主先进光刻系统

黄仁勋在 All-In 峰会上表示，中国到2030年有望研制出自己的先进光刻系统。他还认为，一旦相关技术成熟，凭借强大的大规模生产能力，国产设备进入中国本土晶圆厂只是时间问题。

这一判断明显比蔡司方面更为乐观。蔡司半导体负责人 Frank Rohmund 近日表示，中国要研制出国产 EUV 光刻机，可能还需要约15年。蔡司是 ASML EUV 光学系统的核心供应商。

不过，主持人当时提问的是“advanced lithography systems”，并未明确限定为 EUV。黄仁勋在回答中也没有进一步说明，所指是否为 EUV 光刻机。